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PLASSYS超导量子比特制备系列设备

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更新时间：2022-10-09 12:23:19浏览次数：82次

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上海续波光电技术有限公司

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产品简介

根据近样、离子束刻蚀、蒸镀、溅射、氧化等功能在不通腔体中实现方式

详细介绍

根据近样、离子束刻蚀、蒸镀、溅射、氧化等功能在不通腔体中实现方式，PLASSYS提供2腔体、3腔体、4腔体、5腔体的电子束蒸镀及磁控溅射设备，并根据用户的预算情况，PLASSYS可以提供电子束蒸镀系列设备MEB550S, MEB550SL, MEB550S2, MEB550S2-I, MEB550S3, MEB550S4-I, MEB550SL3, MEB700S2-II, MEB700SL4, MEB700SL5等多种型号电子束蒸镀设备，以及MP350S， MP600S、MPE550S, MP700S等型号磁控溅射设备。

目前包括物理所、清华大学、南方科技大学、苏州纳米所、上海微系统所、中科大、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备；在国际上也获得了美国(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英国（Glasgow Univ）、德国（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄罗斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等国家的机构的高度认可。

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