CM2000环保低能耗纳米胶体磨

环保低能耗纳米胶体磨具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料较理想的加工设备。

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以混悬液制备为例：

制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国nei的设备之后，放弃了具有ji度价格优势的国nei设备，来询问低能耗、高转速、经密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)。

 

上海IKN技术，du特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求

 

胶体磨的基本原理：
　　胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎，精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。

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胶体磨内部结构及分析：
　　粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

混合区：首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺；

剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。

研磨区：研磨区是由凹凸胶体磨组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；

1、     有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能；

2、     可使用较硬的各类易碎颗粒；

3、     可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间；

4、     定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗

5、     转、定子材料可选用2cr13 9cr18  2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。

 

IKN胶体磨选型表：

型号	流量	输出转速	线速度	马达功率	出/入口链接
	L/H	rpm	m/s	kw
CM2000/4	700	9000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8000	4200	23	1.5	DN50/DN50
CM2000/20	20000	2850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40000	1420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80000	1100	23	110	DN200/DN150

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和***终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

 

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