CM2000/4医药软胶囊改性胶体磨,*胶体磨
【简单介绍】
【详细说明】
医药软胶囊改性胶体磨,*胶体磨,软胶囊改良型胶体磨,软胶囊胶体磨,软胶囊研磨分散机,胶囊内容物胶体磨,改良型胶体磨,医药乳液胶体磨,医药混悬液胶体磨
此款医药改良型胶体磨不仅转速高达14000rpm,并且在传统胶体磨的基础上加入了一组分散盘,先研磨后分散,物料粒径更细,更稳定!
软胶囊制剂多用于非水溶性、对光敏感、遇湿热不稳定、易氧化额挥发的药物。它密封严密、用量精确、生物利用度高,药物的稳定性也得到提升,此外还有掩盖不良嗅味的作用。实验证明,口服制剂的生物利用度,以内容物为溶液的软胶囊,混悬液次之,再次为含颗粒的硬胶囊,zui差为片剂。
近年来,超微粉碎技术逐渐应用到软胶囊领域,通过研究发现,药材经过超微化粉碎后,粉末粒径大小分布均匀,球性度和均质度明显改善,这些细粉较易混悬在水或者溶剂以及植物油当中,质量较为稳定。另外随着软胶囊行业的发展,对于胶囊的内容物的处理,出现的大量的设备,如:胶体磨、均质机、分散机等。这些设备通过对内容物的剪切,从内容物粒径更加细化,粉末分散更加均匀。而上海思峻应对这种情况,研发出了新的设备,改良性胶体磨,该胶体磨结合了高剪切胶体磨和高剪切分散机的特点,将二者一体,形成全新的设备,我们也将它定义为“研磨分散机”。
IKN/依肯改良型胶体磨对于软胶囊的生产有着巨大的优势,对于软胶囊内容物的处理十分有效,无论内容物是乳液还是混悬液,都可以将物料充分的细化,提高物料的稳定性和药效。改良型胶体磨的作用力体现在它的剪切力和作用刀头,IKN/依肯改良型胶体磨,研磨分散机,有一级胶体磨头和一级分散盘,对物料先研磨后分散机,再配合14000rpm的转速,乳液粒径一般可细化至1-2微米,混悬液一般可细化至3-5微米,当然这也要根据具体的物料性质和工艺来定。
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上海IKN技术,*创意,融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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