设备由五大部分组成：清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。3.关键件采用进口件，包括气动阀，PFA管道、全氟循环系统，
保证工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。4.工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序，方便使用。
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由*苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。总投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。
公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托，整合华林伟业在相关行业多年的设备制造经验，研发生产中半导体设备。公司以品质为根本，以创新为突破点，走设备研发和工艺研究相结合的道路，使设备能够满足和较早的工艺。公司的研发团队由张宝*士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。
半导体器件设备-硅片清洗机 产品信息
