CM2000混悬液胶体磨，高剪切胶体磨

混悬液胶体磨，高剪切胶体磨，管线式胶体磨，丹参混悬液胶体磨 CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

混悬液胶体磨，高剪切胶体磨，管线式胶体磨，丹参混悬液胶体磨

液体药剂中的药物可以是固体、液体或气体，在一定条件下分别以分子或离子、胶粒、颗粒、液滴状态分散于液体分散媒（溶剂，下同）中组成分散体系。根据分散相粒子大小及分散情况的不同，将液体药剂分为溶液型、胶体溶液型、混悬液型、乳浊液型四类。按应用方法，液体药剂可分为内服、外用和注射三大类。

混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大，微粒与分散介质之间存在着物理界面，是混悬微粒具有较高的表面自由能，混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。若要制得沉降缓慢的混悬液，应减少颗粒的大小，增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。上海依肯高剪切胶体磨CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CM2000系列在线式胶体磨（混悬液胶体磨，高剪切胶体磨，管线式胶体磨，丹参混悬液胶体磨）

胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用*几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

  

IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较（，管线式胶体磨，丹参混悬液胶体磨）：

一、转速和剪切速率：

IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                     

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

具体设备咨询：  蔡，公司有样机提供产品测试

高剪切胶体磨主要用途：

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

胶体磨应用领域：

食品工业：芦荟、菠萝、芝麻、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、乳制品，麦乳精、香精、各种饮料等。
化学工业：油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑等。 
日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、*、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮等。 
建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
其它工业：塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要 。

CM2000系列设备选型表：

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。