CM2000洗面奶胶体磨，洁面乳胶体磨，高剪切胶体磨

洗面奶胶体磨，洁面乳胶体磨，高剪切胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

洗面奶胶体磨，洁面乳胶体磨，高剪切胶体磨

洗面奶是由油相物、水相物、表面活性剂、保湿剂、营养剂等成分构成的液状产品。其中奶油状洗面奶含有油相成分，适用于干性皮肤使用；水晶状透明产品不含油相成分，如配方调理适当，可满足绝大多数消费者使用。洗面奶中表面活性剂具有润湿、分散、发泡、去污、乳化五大作用，是洁面品的主要活性物。此外，根据相似相溶原理，在洗面过程中，可借油相物溶解面部油溶性的脂垢；借其水相物溶解脸面上水溶性的汗渍污垢。洗面奶的成分复杂，且内容物之间互不相容，要想得到高品质洗面奶，高剪切高转速均质胶体磨是*选择

用IKN高剪切胶体磨均质乳化后的洗面奶，色泽纯正、香气淡雅、质地细腻，具有较好的流动性、延展性和渗透性。

IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较（洗面奶胶体磨，洁面乳胶体磨，高剪切胶体磨）：

一、转速和剪切速率：

IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

具体设备咨询：  蔡，公司有样机提供产品测试

高剪切胶体磨主要用途（）：

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

CM2000系列设备选型表：

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%