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CMSD2000圆珠笔用炭黑水性色浆的分散设备

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  • 上海依肯机械设备有限公司
  • 2022-04-21 15:57:48
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【简单介绍】

圆珠笔用炭黑水性色浆的分散设备能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到较全面的清洗。

【详细说明】

圆珠笔用炭黑水性色浆的分散设备,炭黑水性色浆的分散方法,颜料浓缩浆的分散设备,德国研磨分散机,循环式研磨分散机,中试型研磨分散机,

 

IKN研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到较全面的清洗。

 

色浆是一种颜料浓缩浆,即利用不同的颜料,通过对颜料表面处理、表面包裹等技术,经过严密的加工工艺研制而成颜料分散体系。色浆可以用于涂料、油墨、墨水等的着色。根据所使用的溶剂不同,色浆分为水性色浆、油性色浆、水油通用色浆等。水性产品良好的环保性使其应用不断扩展,也相应地不断推动水性色浆的发展。炭黑水性色浆的一大重要用途就是圆珠笔用水性墨水和中性墨水的着色剂。圆珠笔墨水用水性颜料色浆除了基本的分散稳定性之外,还要求颜料粒子粒径足够小(D90< 350 nm),色浆具有足够低的黏度、高的表面张力和低的电导率。这样,通过才能与增稠剂及其它助剂配合调制出应用性能优良的圆珠笔墨水。

炭黑作为一种典型的纳米材料,原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高,极易聚集成较大的颗粒,很难稳定分散于不同体系中,限制了炭黑性能的充分发挥,影响到下游制品的质量和性能,成为炭黑应用的一大瓶颈。炭黑的分散主要受制于三个因素:炭黑本身的特性、载体或分散介质的类型、分散工艺和分散设备

 

 

炭黑的分散好不好重要的还是取决于分散剂和分散设备,大家都知道,炭黑额原生粒径都是<100nm,则遇到液体之后就会形成团聚力,要想很好的将团聚力打开必须使用超高转速及剪切力的设备,依肯机械研磨分散机即可实现这一步,炭黑结构控制剂为纳米碳基材料。通过引入异质材料,一方面控制炭黑的结构(领苯二甲酸二丁酯吸收值),改变炭黑的粒径分布,另一方面降低炭黑与炭黑粒子之间的接触面积,打破单一炭黑微粒之间的附聚平衡,降低炭黑颗粒之间的团聚力,提高炭黑的分散性能。

 

 

CMD2000模块化设计主要由两层分散头构成,工作时,物料通过投料口进入分散腔,首先到达层分散头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切,接着流出的物料进入第二层分散头腔体,对处理过的物料再次进行剪切(原理同上),从而确保混合分散获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,生成的混合液稳定性更好,满足生产对于粒径的要求。

 

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

CMSD2000系列研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 

 

    
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