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CMSD2000/5羟基化双口多壁碳纳米管研磨分散机

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  • 上海依肯机械设备有限公司
  • 2018-11-09 15:01:27
  • 上海市
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【简单介绍】

羟基化双口多壁碳纳米管研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

【详细说明】

羟基化双口多壁碳纳米管研磨分散机,羟基化双口多壁碳纳米管高速均质分散机,管线式羟基化双口多壁碳纳米管研磨分散机,德国超高速,新型

 

IKN研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

 

碳纳米管被认为是一种典型的一维纳米材料。碳纳米管自从被人类发现以来,就一直被誉为未来的材料,是近年来国x科学的前沿领域之一。碳纳米管的*结构决定了它具有许多特殊的物理和化学性质,人们预言碳纳米管可能成为一种新型的高强度碳纤维材料,既具有碳素材料的固有本性,又具有金属材料的导电和导热性,陶瓷材料的耐热和耐腐蚀性,纺织纤维的可编织性,以及高分子材料的轻质、易加工性。将碳纳米管作为复合材料增强体,预计可表现出良好的强度、弹性、抗疲劳性及各向同性,可以预期碳纳米管增强复合材料可能带来复合材料性能的一次飞跃。

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碳纳米管分散难点

 

碳纳米管分散,其实也就是所谓的纳米级物料的分散,在做纳米粉体分散或研磨时,因为粉体尺度由大变小的过程中,范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响,是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。

 

 

CMD2000模块主要由两层分散头构成,工作时,物料通过投料口进入分散腔,首先到达层分散头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切,接着流出的物料进入第二层分散头腔体,对处理过的物料再次进行剪切(原理同上),从而确保混合分散获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,生成的混合液稳定性更好,满足疫苗生产对于粒径的要求。

 

碳纳米管分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备

1、分散介质

(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料。

(2)碳纳米管分散技术,针对中、低粘度分散介质。

2、分散剂

(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

(2)分散剂的用量,与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

(3)水性介质中,*使用TNWDIS。强极性有机溶剂中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶,*使用TNEDIS 。

 

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3、分散设备

(1)超声波分散设备:非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管,用于中、高粘度介质时会受到限制。

(2)研磨分散设备:适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管。

(3)采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法,可以高效、稳定地分散碳纳米管分散剂用量*。

从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

IKN研磨分散机的应用领域:

  1. 精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
  3. 农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剂
  4. 生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土

 

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

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