ERS2000新型铝银粉研磨分散设备

新型铝银粉研磨分散设备设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

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IKN研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

 

银粉是组成导电银浆关键的材料，其质量直接或间接影响浆及终形成导体的 性能。近几十年来，随着微电子工业突飞猛进的发展，对贵金属粉尤其是在微电子中应用 广的银粉的制备和工艺学研究取得了很大进展。

在银粉的物理制备方法中，研磨法其中终的制备方法之一。目前国内研磨工艺 均以滚动式砂磨机为主，即利用研磨珠自身的重量对银粉产品进行研磨加工，整个研磨银 粉过程中，无法对银粉的温度进行控制，且整个研磨过程只靠研磨珠自身重量进行研磨，无 法进行准确控制，因此，研磨所得银粉的质量参差不齐，质量稳定性差。

 

一种超低松装密度银粉的研磨制备方法，包括以 下步骤： (1) 将丙二醇和去离子水混合制得载体溶剂； (2) 将油酸和浓氨水混合制得保护剂； (3) 选择超高速研磨机，并使用冷却水进行冷却； (4) 将载体溶剂和保护剂预混，搅拌均匀； (5) 再加入银粉，搅拌； (6) 启动研磨机研磨； (7) 研磨结束后，关闭研磨机，将混合液倒出，过滤分离，烘干即得超低松装密度银粉。

CMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

 

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。

 

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器