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凯戈纳斯仪器商贸（上海）有限公司
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RTP-6经济型快速退火炉
RTP-6升温速率可达80℃/s。
RTP-6采用抛物线形的黄金反射面，可均匀热处理6英寸的圆晶。该系统可进行快速的热处理，适合热处理工艺的研究与开发。可用于半导体工艺中硅化物的形成以及半导体化合物的过程退火。
应用：
| 1. 离子注入后的活化退火 |  |
| 2. 沉积氧化膜的退火 | |
| 3. 欧姆电极合金化 | |
| 4. PZT，SBT和其它铁电薄膜的结晶退火 | |
| 5. 硅化物及自对准硅化物的生成 | |
| 6. 发光元件，半导体激光基板的热处理 | |
| 7. 超浅结的生成 | |
| 8. 铁电电容器沉积 | |
| 9. 栅氧化膜的生成 |
 | 特点： |
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组成：
| 1. 红外金面反射炉 |  |
| 2. 加热腔 | |
| 3. 可编程温控器 | |
| 4. 9个独立的加热区 | |
| 5. 跨度变换单元 | |
| 6. 气体管路系统 | |
| 7. 热气排出系统 | |
| 8. 炉体框架，开关板 | |
| 9. 高温计（可选） | |
| 10. 水冷机（可选） | |
| 11. 真空泵（可选） |
参数：
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