当前位置:青岛佳鼎分析仪器有限公司>>镀膜设备>> Load-lock式Plasma CVD设备 CC-200/400
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
•27.12MHz高密度等离子制程
•SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜
•以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
•可对应有机EL(OLED)的低温成膜用heater
•使用Tray可搬送多种基板尺寸
•通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)
•功率器件
•LED、LD、高速device等化合物相关
•有机EL(OLED)开发
•太阳电池开发
•MEMS
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