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KRI 考夫曼射频离子源溅射制备 VO2 薄膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备 VO2 薄膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-08-07 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源应用于 AlTiN 涂层研究 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-08-07 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源溅射制备堵片传感器薄膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源溅射制备类金刚石Ta-C涂层 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源辅助磁控溅射沉积Cu-W 膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源用于溅射沉积 ZrN 薄膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源用于溅射沉积硅片金属薄膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源用于复合磁控溅射沉积装置 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源溅射沉积红外器件介质膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积红外器件介质膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
考夫曼射频离子源溅射沉积 NSN70 隔热膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 NSN70 隔热膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRI 考夫曼射频离子源溅射沉积制备碳薄膜 详细摘要： KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRI考夫曼离子源离子束里的电荷与动能交换 详细摘要： KRI 美国考夫曼离子源离子束里的电荷与动能交换
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
上海伯东真空设备在真空镀膜行业应用 详细摘要： 上海伯东 Hakuto 真空设备在真空镀膜行业应用
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD应用 详细摘要： 美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRi考夫曼离子源表面预清洁应用 详细摘要： KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用 详细摘要： KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-10 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRi 离子源电子束蒸发系统辅助镀膜应用 详细摘要： KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
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美国 KRi 离子源常见工艺应用 详细摘要： 兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源, 溅射碳化硼靶和石墨靶...
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-03 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRi 射频离子源应用于国产离子束溅射镀膜机 详细摘要： 兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源, 溅射碳化硼靶和石墨靶...
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-03 参考价：¥ 300000 在线留言 -
KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED 详细摘要： 兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源, 溅射碳化硼靶和石墨靶...
产品型号： 所在地：上海市 更新时间：2023-07-03 参考价：¥ 300000 在线留言