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考夫曼射频离子源用于溅射沉积 ZrN 薄膜

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参考价300000-1920000/件
具体成交价以合同协议为准
  • 型号

  • 品牌

    其他品牌
  • 厂商性质

    经销商
  • 所在地

    上海市

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更新时间:2023-07-10 14:31:16浏览次数:84

联系我们时请说明是化工机械设备网上看到的信息,谢谢!

产品简介

KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜

详细介绍

河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响, 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助在铝表面溅射沉积ZrN 薄膜

 

KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

KRI 离子源的功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

试验结论:

随着磁控溅射时间的增长, 薄膜的亮度在减少, 黄蓝值在 3 min时出现大值, 说明镀膜时间在 3 min 时接近黄色, 红绿值波动比较大; 而氮气流量在 13~18 sccm 内, 薄膜颜色呈金黄色.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生


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