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CMSD2000系列研磨分散（胶体磨）设备特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。我们将高剪切均质分散机进行改装，我们将三变跟为一，然后在均质头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过均质将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMSD胶体磨设备选型表：
| 胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 | |||||
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