ERS2000原位聚合法高分子材料高速分散机
【简单介绍】
【详细说明】
原位聚合法高分子材料高速分散机,纳米高分子材料原位聚合法高速分散机,管线式高分子材料研磨分散机,实验室高分子材料研磨分散机,德国进口高速分散机,IKN高速分散机
IKN高速分散机可以处理量大,运转更平稳,拆装更方便,适合工业化在线连续生产,粒径分布范围窄,分散效果佳,*,物料100%通过分散剪切。采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.
分散机广义上是搅拌机的一种。IKN分散机机,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。IKN分散机zui高可耐200度。至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。
原位聚合法:原位聚合,顾名思义,就是把反应单体填充到纳米层状物的层间,让其在层间发生聚合反应
原位聚合法原理原位聚合是一种把反应性单体(或其可溶性预聚体)与催化剂全部加入分散相(或连续相)中,芯材物质为分散相。由于单体(或预聚体)在单一相中是可溶的,而其聚合物在整个体系中是不可溶的,所以聚合反应在分散相芯材上发生。反应开始,单体预聚,预聚体聚合,当预聚体聚合尺寸逐步增大后,沉积在芯材物质的表面
如纳米二氧化硅 即在位分散聚合,该法是应用在位填充技术,将纳米SiO2在单体中分散均匀后,再进行聚合反应,原位聚合法的特点是既能使纳米SiO2粒子均匀分在聚合物中,又保持了粒子的纳米属性,而且原位聚合法通常是一次聚合成型,无需进一步热加工,因此避免了热加工带来降解的影响,保证了纳米SiO2-聚合物基体的各种性能的稳定。
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IKN高速分散机采用变频调速,各种规格、运转稳定有力,适合各种粘度;液压、机械两种升降形式,升降旋转自如,适应各种位置;普通及防爆配置,安全可靠,操作维护简单;生产连续性强,对物料可进行快速分散和溶解,分散效果好,生产效率高,运转平稳,安装简便。针对不同物料的粘度及处理量有不同的功率及型号。
IKN分散机采取直立式设计,使物料可以全部进入分散腔,符合工艺要求和流体力学要求,增加其工作效率,***低处出口的出料设计符合生产要求,垂直的压力使得该机器工作更加稳定,同时便于清洁。与物料接触的材料根据生产要求使用SS316钢或更加耐酸碱的哈氏合金,*增强其耐磨损和耐腐蚀的特性,杜绝设备与物料产生物理和化学变化而形成污染。采用了三层结构卡匣式的机械密封设计,可以快速安装,可靠性能高,适合制药工业。根据制药规范要求,对分散腔和出料口进行表面处理,*的表面处理质量和*设计便于清洗,符合CIP及SIP的清洁标准。
影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
设备特点传统分散机的比较
⑴ ERS设备与传统设备相比:
高效、节能
传统设备需8小时的分散加工过程,ERS设备1小时左右完成,超细分散效果显x,能耗*降低;
高速、高品质
传统设备的搅拌转速每分钟几十转,带分散功能的转速每分钟1500转以内,只完成宏观分散加工,超细分散能力极为有限;ERS设备的转速每分钟10000~15000转之间,超高线速度产生的剪切力,瞬间超细分散浆料中的粉体。
⑵ ERS设备与同类设备相比:
多层多向剪切分散
同类设备的定转子等部件结构单一,多级多层的结构是单纯重复性加工,相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象;
ERS设备的定转子结构采用多层多向剪切概念,装配式结构使物料得到不同方向剪切分散,杜绝了短路现象,超细分散更为*。
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分散机的选型要点:
1. 首先要明确使用设备所需达到效果和目的。
2. 另外要详细掌握了解物料的性质。
3. 根据物料再对于分散机的搅拌器选型。
4. 再次要确定分散机的操作参数及结构的设计。
5.再考虑分散机设备成本的同时要考虑安装成本
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