主要用途高真空镀膜设备可采用电阻加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源，感应加热式蒸发源。可以蒸发金属，金属氧化物和非金属氧化物，适用于电子工业、光学工业的导电膜、...

本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术、孪生阴极、中频溅射技术，并配以*的控制系统，镀制SO2/ITO膜层，生产过程全部自动、连续进行

卷绕系统采用高精度直流或交流变频调速、具有运行平稳、速度高，对原卷材不划伤、不折皱，收卷端面整齐等特点.

设备采用*的触摸屏和PLC集中控制,装有电脑自动换档真空计和三路流量控制器,一套逆变偏压,边装式加热管四支,电脑PID自动控温,

整机采用计算机网络控制技术，配有人机界面和数据打印输出装置，真空系统全自动控制

本厂生产的墙幕玻璃磁控溅射镀膜机，采用平面磁控溅射靶，可以在大平板浮法玻璃上镀制金属单质膜、复合膜、LE辐射膜，也可在小弯的弧形玻璃上镀膜。

多功能镀膜机具有蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、多弧离子镀膜等功能（用户可以选配等离子镀保护膜）。

磁控溅射+蒸发镀膜设备： 立式、卧式。是一种多功能、高效率的镀膜设备

立式、卧式。可加工的产品包括：手机、DVD、MP3、PDA外壳、按键；化妆品外壳；工艺礼品、玩具、圣诞礼品；可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、...

真空室;不锈钢结构[1100乘1000] 真空机组;K600A 自动控制;PLC全自动控制平面靶;2对圆柱靶;1只弧源;4个偏压电源;脉冲20KW 直流磁控电源...

真空电弧离子镀的原理是基于冷阴极自持真空弧光放电理论。在电弧源离子镀中，以镀膜材料作为靶极（阴极），借助引弧装置，使靶表面产生弧光放电。

为了适应真空镀膜技术迅速发展的需要,经过对镀膜设备的多年的研究开发,现已形成对客户的各种需求均能生产出所需工艺设备,如装饰膜能镀出仿金、黑色、银白、玫瑰红色、红...

多弧离子镀膜设备是一种高效、无公害、无污染的干式电镀设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

本系统为塑料或金属部件表面EMI薄膜沉积单机型设备,其利用等离子体对被镀工件表面进行活化,采用磁控溅射方法沉积薄膜,免除涂漆前处理工艺,大幅降低工件加工成本,整...