22019-12-09 17:51:2059
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GM2000化妆品粉底液高剪切胶体磨，采用了二级处理结构，*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块，第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6
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