在 LED（发光二极管 ）封装工艺工程中, 器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品的可靠性, 影响产品的质量. 某 LED制造商为了保证有效清洗 LED 器件表面的氧化物及颗粒污染物, 采用伯东伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 在LED 封装前进行离子清洗.
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 技术参数:
离子源型号 | RFICP220 |
Discharge | RFICP 射频 |
离子束流 | >800 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 20 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 30 cm |
直径 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
客户清洗的工作流程:
在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击LED上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉.
为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hPa, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 UC, 该型号可以倒装和抗腐蚀,
伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 技术参数：
分子泵型号 | 接口 DN | 抽速 l/s | 压缩比 | 启动压强mbar | 极限压力 | 全转速气体流量hPa l/s | 启动 | 重量 | |||
进气 | 排气 | 氮气 | 氦气He | 氢气 H2 | 氮气 | 氮气N2 | hPa | 氮气N2 | min | kg | |
Hipace 1800 UC | 200 | 40 | 1,450 | 1,650 | 1,700 | > 1X108 | 1.8 | < 1X10–7 | 20 | 4 | 33 – 34 |
运行结果:
1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物
从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生
