主要用途： 本产品主要用于FPD玻璃基片或玻璃及硬脆材料的单面高精度、高效率的抛光。 结构特点 1、 抛光盘、抛光头的驱动电机采用*的变频调速器，可实现缓启动、缓停车或定点停车； 2、 抛光盘采用交叉滚子轴承支撑，具有刚性稳定，高可靠性；在高转速下仍能确保精确。 3、 抛光液从抛光头两侧由抛光液泵循环加注，满足抛光的工艺要求； 4、 压力采用气动三段加压（负压、自重、正压）； 5、 采用特殊进口的气缸实现自动加压； 6、 抛光盘由减速电机驱动，其运行速度可通过操作面板上的旋扭进行无级调节； 7、 抛光头的摇动采用平行滑动装置，刚性高，稳定性好，压力均匀。摇动速度可通过操作面板上的旋扭进行无级调节； 8、 抛光头的升降、翻转采用气压驱动，保证了运转的平稳性和操作的安全性； 9、 控制系统采用PLC控制，可根据用户要求设定运行程序，实现动态接触启动、停车； 10 由于采用了日本EVATECH公司的设计，该机器工作时可实现高效低耗，且故障发生少。 主要技术参数 1、 抛光盘直径： Φ1200mm 10抛光盘电机：Y132S-4 11KW 1500rpm 2、 抛光头直径： Φ950mm 11、摇动电机： YEJ802-4 1.5KW 1500rpm 3、 抛光头移动幅度： ±350m m 12、抛光液泵： AB200 450W 200L/min 4、 抛光盘相对抛光头的偏心量：50～300mm 13、搅拌电机： 5IK90GU 100rpm 5、 抛光盘转速： 20～50rpm 14、电源（三相五线制）：AC380Ｖ 6、 抛光头摇动速度： 0～100mm/s 15、气源：0.5-0.65Mpa 1000L/min 7、 抛光头升降行程： 185mm 16、外形尺寸：3120X 2050X2319 8、 抛光头翻转角度： 77.5° 17、质量：约5000Kg 9、 抛光工件的厚度： 0.3～1.1mm 精度指标 抛光盘的平面度 0.005—0.025mm 抛光头的平面度 0—0.01mm |
深圳市大精研磨技术有限公司，是一家专业从事各种高精密研磨设备、抛光设备及其配套产品和消耗材料的。本公司集结研发设计、生产制造、销售和售后服务于一体，其产品广泛适用于光学、航空、汽车、模具、蓝宝石加工及各种五金行业。客户群遍及全国各地和欧、美、曰等地区。其代表有华为、中电集团；美国苹果、曰本大新、松下；德国博土；中国台湾富士康等众多中外企业. 经过多年的努力和发展，本公司已凝聚了一批高级技术人员和管理人员，具有很强的技术实力和竞争力。此外还成功研发了多项研磨新技术新工艺，设计、制造了多种糸列的研磨、抛光设备。这些技术和设备有相当部分国内研磨行业的空白，有的己达水平，得到了广大客户的好评，欢迎各界客户朋友、考察、洽谈。 经营项目： 制造销售设备类：平面研磨机.平面抛光机.双面研磨机.双面抛光机.镜面抛光机，横向研磨机，不锈钢抛光机，陶瓷抛光机等机器 来料加工类：五金零件.光学晶体材料等产品的平面研磨抛光加工 消耗品类： 1：单晶体金刚石研磨液.多晶体金刚石研磨液.抛光液.抛光布，润滑油 2：合成铁盘.合成铜盘.锡盘.纯锡盘. 各种进口研磨盘等。
大型玻璃抛光机 产品信息
