二级反渗透设备短期保存适用于停运15d以下的系统，可采用每1～3d低压冲洗的方法来保护反渗透设备。实践发现，水温20℃以上时，反渗透设备中的水存放3d就会发臭变质，有大量细菌繁殖。因此，建议水温高于20℃时，每2d或1d低压冲洗一次，水温低于20℃时，可以每3d低压冲洗一次，每次冲洗完后需关闭净水设备反渗透装置上所有进出口阀门。
*停用保护适用于停运15d以上的系统，这时必须用保护液（杀菌剂）充入净水设备反渗透装置进行保护。常用杀菌剂配方（复合膜）为甲醛10（质量分数）、异噻唑啉酮20mg/L、亚硫酸氢钠1（质量分数）。
二级反渗透设备
R/O装置为了溶解固体形物的浓缩排放和淡水的利用，为防止浓水端特别是RO装置后一根膜组件浓水侧出现CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的浓度积大于其平衡溶解度常数而结晶析出，损坏膜原件的应有特性，在进入反渗透膜组件之前，应使用离子软化装置或投放适量的阻垢剂阻止碳酸盐，SiO2，硫酸盐的晶体析出.
采用精密过滤器对进水中残留的悬浮物、非曲直粒物及胶体等物质去除，使RO系统等后续设备运行更安全、更可靠。滤芯为5um熔喷滤芯，目的是把上级过滤单元漏掉的大于5um的杂质除去。防止其进入损坏膜的表面，从而损坏膜的脱盐性能。
是用足够的压力使溶液中的溶剂（一般是水）通过反渗透膜（或称半透膜）而分离出来，因为这个过程和自然渗透的方向相反，因此称为反渗透。反渗透法能适应各类含盐量的原水，尤其是在高含盐量的水处理工程中，能获得很好的技术经济效益。反渗透法的脱盐率提高，回收率高，运行稳定，占地面积小，操作简便，反渗透设备在除盐的同时，也将大部分细菌、胶体及大分子量的有机物去除。
主要用途
⒈制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路?芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水；
⒉制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水；
⒊制取医药工业所需的科研大输液、注射剂、药剂、生化制品纯水、科研无菌水及人工肾透析用纯水等；
⒋制取饮料（含酒类）行业的饮用纯净水、蒸馏水、矿泉水，酒类酿造水和勾兑用纯水；
⒌海水、苦咸水制取生活用水及饮用水；
