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京迈研 三氧化钼靶材 MoO3磁控溅射材料

参   考   价: 1000

订  货  量: ≥1  件

具体成交价以合同协议为准

产品型号3524

品       牌

厂商性质生产商

所  在  地北京市

更新时间:2022-01-20 16:36:45浏览次数:168次

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京迈研3524 三氧化钼靶材 MoO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

京迈研3524   三氧化钼靶材  MoO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

白色或苍黄色、透明斜方晶体。密度4.692g/cm3。熔点795℃。沸点1155℃  升华  。加热时变黄色,冷时即复原。即使在低于熔点情况下,也有显著的升华现象。不溶于水,能溶于氨水和强碱。与碱溶液和许多金属氧化物反应生成钼酸盐和多钼酸盐。由辉钼矿  MoS2  灼烧或将盐酸加入钼酸铵中析出钼酸后再加热熔烧而制得,亦可直接煅烧钼酸铵得到。用于制金属钼和钼的化合物。

中文名

三氧化钼

      

795ºC

化学式

MoO3

     

1150°C

分子量

143.94

     度

4.69g/cm³

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

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