软胶囊制剂内容物均质胶体磨，药物细粉湿法均质胶体磨，管线式湿法高速胶体磨，软胶囊制剂内容物高速胶体磨，德国进口胶体磨应用于软胶囊剂，无菌无残留均质胶体磨，分体式高速剪切胶体磨，立式多功能剪切均质胶体磨，中试型超微研磨胶体磨，制药分散均质乳化胶体磨
一种或多种辅料加热溶化后搅拌均匀，冷却制成基质，加入药物细粉搅拌并过ikn胶体磨混匀得内容物
IKN公司作为医药工业中的企业，是可靠而值得信赖的合作伙伴。IKN公司的产品组合包括用来生产均质乳浊液和悬浮液以及用来混合流动性固体的机器和设备。IKN公司的创新混合技术涵盖整个药品生产范围：从低粘度产品（如注射剂、*）到高粘度产品（如栓剂和牙科浆状体）。
.CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺：CMS研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
IKN改进型胶体磨的技术参数：
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
上海依肯研磨分散机（改进型胶体磨）较普通胶体磨（zui高转速2930转）高出4-5倍转速（14000转），作用力更强，剪切分散效果更好；设备整机夹套，可根据需求加热货冷却；工作腔体及罐体夹套中的介质可根据需求通水/冷却液/浆料中的液体介质/导热油等均可；定转子间间隙仅为0.2-0.4mm（间隙可调，研磨细度可控），而普通胶体磨的定转子间隙为1mm以上。详询上海依肯 工程师 林万翠
三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的胶体磨的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
研磨分散机腔体工作头分工：
研磨头：用于湿磨，或用于坚硬粒状原材料的研磨，也可用于细乳化和高粘物料处理。
研磨头结构，一次循环即完成细化处理
磨头间隙可调，可灵活控制流量
研磨头的*设计方式，三级锯齿，每个沟槽的深度不一样，从上到下深度由深变浅，由款变窄，使研磨的物料越磨越细
分散头：用于研磨后再次细化和团聚打开
除此之外，设备更有人性化设置：
1、研磨间隙可调，研磨细度可控；
2、设备可灵活改装成6种设备（分散机、乳化机、胶体磨、研磨分散机、锥体磨、湿磨机）；
3、夹套设计，温度可控（可降温，可加热 其中的介质可以是水、冷却液、导热油或混合物料中的液相介质）；
4、模块化分体结构，操作维护方便，占地面积小。
软胶囊制剂内容物均质胶体磨，药物细粉湿法均质胶体磨，管线式湿法高速胶体磨，软胶囊制剂内容物高速胶体磨，德国进口胶体磨应用于软胶囊剂，无菌无残留均质胶体磨，分体式高速剪切胶体磨，立式多功能剪切均质胶体磨，中试型超微研磨胶体磨，制药分散均质乳化胶体磨
化工机械设备网