水飞法粉碎机，珍珠水飞法粉碎机   是透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及分散的效果。

珍珠的研磨  一般采用干法研磨可以达到20UM ，但是现在国家对医药行业的要求，珍珠用在医药上面必须应采用水飞法研磨  

水飞法是 是矿物药在湿润条件下研磨，再借粗细粉在水里不同的悬浮性取得极细粉末的方法。水飞法在很多方面有它*的地方。因水飞法是在加水条件下研磨，可减轻矿物药在研磨时产生的热变化和氧化，并可防止药粉飞扬。借水对药粉的悬浮作用，可除去体轻的非药用部分以及被水充分溶解的物质。

珍珠水分法粉碎机是 

的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

       超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

       CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

珍珠水飞法粉碎机的型号  

高速胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

CMS 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMS 2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

的额特点

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

2 胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

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