CMD2000/4氧化铝研磨分散机

I氧化铝研磨分散机，广东纳米分散机，IKN研磨分散机在氧化铝中的应用，是由电动机通过皮带传动带动转齿与相配的定齿作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

氧化铝研磨分散机，广东纳米分散机，IKN研磨分散机在氧化铝中的应用

纳米三氧化二铝（又名氧化铝）粒径分布均匀，电阻率高，具有良好的绝缘性能，广泛用于塑料，橡胶，陶瓷，涂料等绝缘性能要求高的领域。

纳米氧化铝用途：.绝缘材料陶瓷粉（纳米氧化铝）VK-L20涂层导，热绝缘复合材料，高压引入棒的绝缘体材料，满足X7R需要的多层陶瓷芯片电容器的绝缘材料

中国氧化铝企业达40多家，已建和在建产能达4350多万吨/年，其中处理国内铝土矿的产能为3250万吨/年，是世界*大氧化铝生产国。 但是由于技术问题，我国生产的氧化铝产品以中低端为主流，价格低廉，生产设备落后，能耗大，利润不高。特别是纳米三氧化二铝产能不高，产品基本被跨国企业垄断。

 在制备纳米氧化铝粉体过程中，由于其比表面积大，表面能高，容易产生粉末的团聚，破坏材料性能，所以现在将常规微米级氧化铝研磨成纳米级氧化铝，粉末团聚成了一个难题。上海IKN为应对这种现状研发的研磨分散机，很好的解决了这个难题。

    

CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMD2000系列研磨分散机的结构（氧化铝研磨分散机，广东纳米分散机，IKN研磨分散机在氧化铝中的应用）：

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

CMD2000系列研磨分散机的特点（，广东纳米分散机，IKN研磨分散机在氧化铝中的应用）：

① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CMD2000系列设备选型表

型号	流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.

研磨分散机和均质机的作用对比：

研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。