ERS2000/4纳米水性涂料分散机 有效解决团聚问题

纳米水性涂料分散机 有效解决团聚问题该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合。
三级乳化机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

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一般来说，纳米涂料必须满足两个条件：首先，涂料中至少有一相的粒径尺寸在1—100nm的粒径范围；其次，纳米相的存在使涂料的性能要有明显的提高或具有新的功能。传统高速分散机的主要作用是将涂料研磨浆进行预混合。现代化涂料原材料中的颜料、填料都是超细化易分散的，加上润湿分散机的运用，许多涂料不必进行研磨，仅仅使用高速分散机就可以达到规定的细度。但是对于纳米涂料的生产，传统的高速分散机是无法到达要求的，细度的要求无法满足。

 

纳米涂料的难点是：粉体分散到液体里面，容易形成二级团聚体，会将原本纳米级的粒径变成大的团聚体，从而难以分散细化，影响zui终产品性能。

上海依肯应对这种现状，研发并生产出型的研磨+分散设备，研磨和分散一体化的设备，先研磨将二级团聚体打开，再分散，从而还原原始的纳米粒径。

结合南昌某客户的案例，使用上海依肯CMSD2000系列研磨分散机设备对纳米涂料进行处理，研磨分散3遍，即可还原纳米级粒径，客户很是惊喜和认可。

                  
             

CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。

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研磨式分散机是由胶体磨，分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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