CM2000/4IKN/依肯二维材料管线式胶体磨

IKN/依肯二维材料管线式胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备

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二维材料 二维材料是指电子仅可在两个维度的非纳米尺度（1-100nm）上自由运动（平面运动）的材料，如纳米薄膜、超晶格、量子阱。二维材料是指电子仅可在两个维度的非纳米尺度（1-100nm）上自由运动（平面运动）的材料，如纳米薄膜、超晶格、量子阱。
纳米材料是指材料在某一维、二维或三维方向上的尺度达到纳米尺度。纳米材料可以分为零维材料、一维材料、二维材料、三维材料。
零维材料是指电子无法自由运动的材料，如量子点、纳米颗粒与粉末。
一维材料是指电子仅在一个非纳米尺度方向上自由运动（直线运动），如纳米线性结材料、量子线，代表的是碳纳米管（carbon nanotube）。
三维材料是指电子可以在三个非纳米尺度上自由运动，如纳米粉末高压成型或控制金属液体结晶而得到的纳米晶粒结构（纳米结构材料）。

石墨烯材料  氮化硼（BN）、二硫化钼（MoS2）。zui近在凝聚态物理领域有着广泛的研究。
二维材料研磨分散机，二维材料剥离设备，超高速研磨分散机，线速度66M/S分散机

高剪切胶体磨在食品、化工、医药、化妆品等多行业有着广泛的应用。胶体磨的作用原理是通过磨头定转子来实现的，转子做高速运行，在定转子间隙内形成强大的离心力、剪切力以及其他一些综合作用力，使物料进行研磨、碰撞、剪切，从而达到研磨细化的作用。

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IKN/依肯 管线式胶体磨可实现工业化连续生产，电机和胶体磨主轴采用分体式结构，可获得剪切速率更高，研磨能力更强。一般厂家生产的胶体磨的转速为3000rpm，对物料的细化能力在20-50μm；而IKN/依肯的高剪切胶体磨转速高达14000rpm，对物料的细化能力在5-10μm。

 

超细胶体磨不同于砂磨机，砂磨机是通过锆珠硬碰硬的去磨物料，磨损会比较大，而胶体磨是通过综合作用力去细化的，相对来说磨损会小很多。IKN超细胶体磨与物料接触部分均采用316L不锈钢材质，另外处理硬度较大的物料时，也可在磨头表面喷涂一层碳化钨钴，增加耐磨性。

IKN/依肯超细管线式胶体磨的工作原理是高速剪切，所以设备的转速是影响研磨效果的重要因素。普通胶体磨一般转速为2900rpm，而IKN/依肯超细胶体磨转速可达14000rpm，研磨能力是设备的4-5倍。

对于研磨设备而言，影响研磨效果的因素有：

 

1、设备转速，同种物料下，转速越高，研磨效果会更好。

 

2、磨头的精密度，同种物料下，磨头精密度越高，物料会研磨的更细。

 

3、研磨时间，同种物料下，处理时间越长，研磨细化效果越好。

 

 

超细管线式胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先x水平。

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CM2000系列超细胶体磨设备选型表

 

型号	流量 L/H	输出转速 rpm	线速度 m/s	马达功率 KW	出/入口连接
CM2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
CM2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
CM2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
CM2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
CM2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
CM2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150

 

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到允许量的10%。

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