近年来,我们看到人工智能(AI)和机器学习(ML)的应用扩展到更广泛的计算机和移动应用领域。现在,就像低成本图形处理单元(GPU)的普及推动了深度学习革命一样,硬件设计被预测为下一个重大发展提供基础。
随着大型企业,初创企业和中小型企业等公司争相建立支持AI生态系统的基本AI加速器技术。2018年,AI芯片市场整体价值66.4亿美元,预计未来几年将大幅增长,到2025年将达到911.9亿美元,复合年增长率为45.2%。因此,可以理解的是,许多公司都在致力于开发AI芯片。
集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
莱特莱德芯片超纯水设备系统根据半导体芯片用水要求,采用当今*的全自动电去离子超纯水处理技术,前置预处理配套使用加反渗透处理,有效去除水中各种盐份及杂质,进一步提升水质,超纯水水质*符合芯片生产用水要求。
芯片超纯水设备性能优势数不胜数,其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,设备结构设计相对靠紧,所以其占地非常小,可以为企业节省很多空间,超纯水设备在出厂前均需进行装置调试,所以设备故障几率较小,日常保养、维修等操作都非常简单。芯片超纯水设备内部还安置有反渗透预脱盐技术,再次从根本上行保障了水处理设备的出水水质,与此同时,超纯水制取设备废水产出量少,不会对环境造成污染,有非常高的环境效益、经济效益,其发展前景广阔。
芯片超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
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