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　30T/H电子行业用反渗透设备就是针对电子行业生产用水的而专门设计生产的水处理设备，该设备的出水水质能够全满足企业的实际生产需要。该设备的出水量是30吨每小时，可以根据自身的实际需要，自行调节设备的出水量。

　电子行业反渗透设备原理

　　反渗透设备是根据反渗透膜的过滤原理对原水进行处理的水处理设备，反渗透设备在设计安装时有一定的基本要求，以便能更好的使用反渗透设备。

　　电子行业反渗透设备的基本要求

　　1、反渗透装置(以下简称装置)应符合本标准的规定，并按照规定程序批准的图样及技术文件制造。

　　2、装置选用的预处理设备，管道，阀门，仪表等构件应符合国家及行业相关标准，并具有产品合格证，必要时应采取适当的防腐及保护措施，不得污染水质。

　　3、装置应根据进水水质选择性能合适的膜元件。

　　4、装置加工制造应符合JB/T 2932的规定。

　　5、装置主机架应安装牢固，焊缝平整，水平及垂直方向公差应符合装置的设计要求。油漆涂层均匀，美观，牢固，应符合GB/T2932的规定。

　　6、管道安装应平直，走向合理，符合工艺要求。

　　7、泵安装应位置平衡，在运转中不得有明显的振动.高压泵进，出口应分别设有低压保护和高压保护，在其出水管路上宜设置慢开阀门。

　　8、反渗透膜的保护系统应安全可靠，要有防止水锤冲击的保护措施;膜元件渗透水侧压力应小于浓缩水侧压力，特殊情况下渗透水侧压力可高于浓缩水侧压力，但压力差应小于0.03MPa。

　　9、装置在设计压力1.25倍条件下试压，不得有渗漏现象。

　　10、电气控制的安装应便于操作，控制应灵敏可靠，遇故障应立即止动，具有自动保护功能。

　　11、经预处理后的水进入反渗透处理工序，应进行水质污染指数测定，其方法按DL/T 5588规定进行

　　12、装置应具有化学清洗系统或接口，且具有分段清洗功能。

　　13、装置的外排废水应符合GB 8978的规定。

电子光学•EDI超纯水设备

EDI超纯水设备又称电去离子设备，一般用于电子光学行业生产用水，如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求．

滨润环保服务内容：

 包括设备工艺设计、系统制造、安装、现场安装、系统试装调整、设备保修、及售后服务等。

设计参考标准：

   1）建设方提供的相关技术资料，技术说明，及基本技术要求；

   2）国家现行有关设计规范、施工及验收规范、质量评定标准；

   3）反渗透系统设计依据美国；

   4）ZBG98020-90《水处理设备系列型谱》；

   5）电力装置的继电保护和自动装置设计规范(GB50062-1992)；

   6) 工业与民用电力装置的接地设计规范(GBJ65-1983)；

   7）GB/T11446.1-1997国家电子级超纯水标准Ⅰ级≥18MΩ/CM （25℃）95％以上时间；  

滨润环保电子行业EDI超纯水设备简述：

 既将水中的导电介质几乎全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水称为超纯水,我国电子工业部将电子工业用水划分为四级用水标准（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），科利达环保采用采用当今*的双级反渗透纯化水处理技术＋EDI模块化设计,原水通过一、二级反渗透系统去除各种盐份及杂质,再经过EDI系统对反渗透产水高度净化，使水质提高。此电子行业EDI超纯水设备不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，系统工艺*、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便,处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆的超纯水。

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