氮化硅用真空碳管烧结炉设备用途

本系列真空炉为周期作业式，采用炉盖升降、石墨管为发热元件，适用于金属材料，无机非金属材料，在真空或保护气氛下进行烧结适用，也可用于光学材料的烧结提纯样品测试分析等适用。

氮化硅用真空碳管烧结炉主要技术参数

3.1 电源：三相 380V 50Hz

3.2 加热功率：70Kw ±10%（两相380v）

3.3 设计温度：1800℃

3.4 额定温度：0~1750℃

3.4 工作区尺寸：Φ300*300（D*H，mm）（内可放置对应尺寸的坩埚）

3.5 控温区数：一区

3.6 控温方式：钨莱热偶程序控温

3.7 控温精度：±1℃

3.8 冷态极限真空度：6.7*10-3Pa（空炉、冷态、烘烤除气后）

3.9 充气气氛：惰性气体

3.10 充气压力：≤0.05MPa

结构及功能说明：

设备采用立式上开盖结构，设备整体设计操作方便，设备主要有炉盖、炉体，炉架、真空系统、加热系统、水冷系统、炉底升降系统，控制系统等组成。

5.1 炉盖

炉盖采用双层不锈钢（SUS304）水夹层封头结构，与法兰组焊成一个整体。其中内壁精密抛光，外壁拉丝处理。炉门上设有冷却水进出口、压力表，放气阀等快接接口。

5.2 炉体

炉体采用双层不锈钢（SUS304）水夹层架构，与上、下法兰组焊成筒形结构，上下法兰平面上开设有燕尾型密封槽，采用O型硅橡胶密封圈密封。炉内壁精密抛光，外壁拉丝处理。炉体侧面设有冷却水进出口、真空抽气口、加热电极接口，红外测温接口等。

5.3 炉底

炉底采用双层不锈钢（SUS304）水夹层平板结构，与法兰组焊成一个整体。其中内壁精密抛光，外壁拉丝处理。法兰平面开设有燕尾型密封槽，采用O型硅橡胶密封圈密封。

5.4 炉架

炉架采用型材焊接作为骨架，并配合数控钣金，组合成一个整体，作为整个设备的基础。同时，一体式设计整齐美观，操作方便。

5.5 加热及隔热系统：

加热采用高纯石墨作发热体，纯度高，无挥发，有效保证炉腔内的清洁度。隔热材料采用石墨成型纤维软毡，保温效果好，耐冲击性好。整个隔热屏采用金属框架固定，便于安装与维护。

温度控制采用高温热电偶配合程序仪表闭环控制，带多段程序，可以设置升温、保温、降温程序，自动运行。同时，在隔热屏外设置一支监控热电偶，监控隔热屏外温度，提高设备的安全使用性能。

5.6真空系统

真空系统采用二级泵配置，由一台2X-30旋片式机械泵配压差阀、一台KT-300扩散泵+真空阀阀、充气阀、放气阀、真空压力表、真空测量规管等组成，真空管道与泵的联接采用金属波纹管减缓震动，真空度的测量由睿宝数显真空计执行。

5.7 充放气系统

本设备配置一路充放气系统，由流量计、电磁阀、手阀、、接头等组成，可对炉内气氛压力进行控制。手阀可以根据实际情况，适当调整气体流量。排出的气体客户可结合实际情况进行处理。

5.8 水冷装置

水冷系统由进出水总管道、阀门及各支路组成。冷却水由总进水总管进入后，经过各支管送到炉门、炉体、炉底、水冷电极、真空泵、冷阱等这些需要冷却水的地方，然后汇总到出水总管排出。总进水管路设有电接点压力表，具有断水声光报警并切断电源功能。各支路水管采用透明塑胶软管，通过不锈钢接头联接进出水总管道及设备各进出水口。每路冷却水进水管都装有手动阀门，可手动调节水流量大小。

5.9 控制系统：

控制加热系统有可控硅调压器+低压高流大功率变压器+测温装置，组成闭环控制系统，温度仪表采用程序仪表带PID自动调节功能，带自整定自我调整能力。稳定可靠，控制精度高。设备整体配有操作模拟屏，控制系统的操作都集中在上面，直观明了，操作简单可靠。控制系统集中安放在炉架的一侧箱体内，整结大方，维修方便，所有器件均采用施耐德，西门子等，保证使用安全。控制箱柜上都有安全贴，安装接线标准化制作。

5.10变压器及连接电缆

选用与使用功率相匹配的干式隔离变压器及电缆。