洁净气体干燥纯化器返回列表页

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更新时间：2016-03-03 02:59:06浏览次数：372次

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产品简介

光学设备、实验室仪器等需要使用洁净干燥空气进行各种用途的吹扫。吹扫气体有可能把不需要的气态污染物引入光学镜片和硅片区域。这种污染物会吸收光，在镜片上留下淀积物或者淀积在进行工艺加工中的硅片上，从而导致产品损失（很差的图形品质）和潜在的工艺设备损坏（污染物在镜片表面积聚）。对于使用洁净干燥空气作为镜片的吹扫气体所碰到的问题，本公司提供了完满的解决方案，洁净气体干燥纯化器针对半导体应用超高纯气体而设计的，采用脱烃、硫化物、卤化物、残油、灰尘颗粒等杂质，从而得到洁净干燥气体。

详情介绍

技术参数：

原料气：空气、氢气、氧气、氮气、氩气、氨气、二氧化碳、一氧化碳等气体，露点≤－40℃。

净化后质量指标：经脱水干燥、露点≤-70℃～-90℃，或根据用户具体情况而定，经后级净化，可脱除空气中硫化物、卤化物、碳氢等等杂质，使空气达到洁净要求。

操作压力：输入≥ 0.8MPa（压力愈高愈好），输出压力略低于输入压力

处理气量：1—1000Nm 3 /h

适应范围：实验室气体分析、载气、标准气/混合气配气、半导体材料生产、有色金属加工、精细化工。