电子级超纯水设备采用全新制取工艺,从而加强镀件光泽度、附着力,配置必需运用纯水,提升产品质量。纯水制取技术的不断提升,为电子行业的发展提供了技术支持。下面介绍一下电子级超纯水设备的流程和清洗方法。
一、电子级超纯水设备的清洗方法
一槽和二槽药水槽温度:40-65度,漂洗槽和慢拉也一样,烤箱温度100-120度左右,每槽清洗时间3-5分钟,振动大小每槽满频率或80%频率。纯水的纯度对清洗有很大影响,水质比较差会有很多水印和白点的,溢流水要中等大小。药水是从后储液槽加入,等温度升上来后加入,并搅拌均匀溶解充分,药水更换24小时为宜,漂洗槽纯水更换1个班次为宜。
我司采用*的超纯水设备工艺流程,采用预处理+双级反渗透+EDI工艺,满足超纯水电阻率,保证产品质量。

二、电子级超纯水设备的工艺流程
1、采用离子交换方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用两级反渗透方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

三、电子级超纯水设备的执行标准
● GB/T11446.1-1997《中国国家电子级水》
● JB/T7621-1994《电力半导体器件工艺用高纯水》
● GB6682-2008《分析实验室用水国家标准》
● ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》
● GMP认证标准
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