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莱特莱德(上海)环境技术股份有限公司
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一、半导体加工用超纯水设备概述
半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料，在半导体加工过程中需要使用水进行处理，该水质的要求比较高，不能含有任何离子杂质。半导体加工用超纯水设备采用反渗透技术和EDI技术，有效去除原水中的各种杂质，保证设备的出水水质满足半导体加工用水。
莱特莱德上海水处理设备公司致力于成为时代的水处理企业，形成了完整的产品体系与项目设计体系。专业提供纯化水设备、超纯水设备、反渗透设备、水处理设备等设备的工程、价格与行业解决方案。
二、半导体加工用超纯水设备工艺流程
预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)
预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗透膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)
预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)
三、半导体加工用超纯水设备优点
1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。
2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3、降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计，使半导体加工用超纯水设备在生产工作时能方便维护。
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