Quantum Design China(Beijing)
日本Advance Riko公司推出的桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃，可对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。应用领域 • SiC氧化膜的生成和激活；• 半导体开发与研究；• 玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理；• 作为热处理炉对高熔点材料进行热处理；• 陶瓷材料的热冲击测试。
产品特点
• 可以在10s内加热到超高温1800℃；
• 可以加热后直接水淬；
• 红外线灯加热提供清洁加热减少灰尘和气体的生成；
• 紧凑的桌面型设计；
• 通过USB与电脑连接，输入温度参数；
• 在加热过程中，在电脑屏幕显示温度。
基本参数
温度范围：室温-1800℃
样品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm
样品支架：氧化铝或者高纯碳
加热氛围：多种
热电偶：JIS B φ0.3 （W-Re可选）
设备结构以及样品支架：
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