粉碎设备 混合设备 分离设备 浓缩结晶设备 传质设备 干燥设备 反应设备 换热设备 制冷设备 空分设备 储存设备 锅炉|加热设备 包装机械 输送设备 化工实验室设备
上海续波光电技术有限公司
上海续波光电技术有限公司
关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型号：MP600S，产地：欧洲，应用：制备单层/多层金属薄膜
关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、
磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射
连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型号：MP600S， 产地：欧洲 ， 应用：制备单层/多层金属薄膜。
多靶反应磁控溅射镀膜仪是微米纳米器件制备的设备，可用于制备单层/多层金属薄膜等，适用于半导体，光电子学，光子学，微机电系统（MEMS）和微流体技术等领域。
反应腔体：内径为600mm，高度300mm，采用电化学抛光不锈钢
真空系统：采用1500 l/s低温泵+15m3/h 干泵
采用薄膜真空计、潘宁/皮拉尼真空计
衬底尺寸：可加载4英寸衬底
采用电阻加热可达500℃
采用K型热电偶测温
磁控阴极：四个6英寸磁控阴极，
与样品台的距离手动可调（7-15cm）
每个阴极配备一个 圆柱形挡板，防止 污染
每个阴极配备一个电气阀
每个阴极都可以是直流或射频模式
阴极电源：一个300W 13.56MHz射频电源（可以升级到2kW）
射频转换开关可用于溅射或衬底清洗
一个2kW 直流电源
偏置电压：10V-300V可调
反应气路：分别为Ar、N2、O2气路，每个气路配备MFC
Load Lock：采用Al合金腔体，手动样品传动臂。
采用主腔体干泵抽气
控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用
若对我们的设备感兴趣，欢迎联系我们！
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
化工机械设备网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
