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上海续波光电技术有限公司
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MPCVD方法合成金刚薄膜具有高纯度、均匀性好、面积大等优点，特别是在合成大面积金刚石薄膜方面，是其他方法难以与媲美的
MPCVD方法合成金刚薄膜具有高纯度、均匀性好、面积大等优点，特别是在合成大面积金刚石薄膜方面，是其他方法难以与媲美的。欧美、日本已经能够提供高稳定性MPCVD设备，供科研和生产使用。
Key words: MPCVD system； 高纯度单晶金刚石（SCD）；polycrystalline diamond（PCD）；超纳米晶金刚石（UNCD）；光学窗口/optical window；微波窗口/microwave window；high power；purity；uniformity；homoepitaxial growth；高功率电子器件；掺杂、B-doping；N-doping；微波等离子化学气相沉积设备；金刚石单晶；高功率金刚石窗口；拉曼激光器。
我们的微波等离子化学气相沉积设备（MPCVD system）产品特点：
1、的腔体设计及耦合方式，为等离子球的均匀性及铺展性提供了可靠的保障。
2、的天线设计使得plasma-wall几乎无反应，可获得高纯度的等离子体，从而合成高纯度金刚石薄膜。
3、的能够供给方式，功率：6KW ,35KW；根据不同的微波功率，生长速度可控：5-50 μm/hr。
4、可用于沉积高品质单晶（single crystal diamodn/homoepitaxy growth）、多晶（polycrystalline diamond）、纳米晶（namocrystalline diamond）；
5. 用我们的设备可以沉积大面积光学级金刚石薄膜(PCD for high power laser output window and high power microwave window)：可达直径8英寸以上，厚度可达几个mm；
也可以获得高纯度单晶金刚石(SCD)，N含量可以达到ppm，ppb，甚至是无杂质无色透明单晶;
也可以进行掺杂研究(for N-dopingP-dopingB-Doping as P-type or N-type semiconductors)
还可以进行多种子同时沉积，进行大规模单晶金刚石生产（Multiple-seeds growth）。
该设备可用于工具级、热沉级、光学级、电子级大面积高品质金刚石薄膜的合成。欢迎新老客户咨询，本公司将为您的科研、生产量身推荐的设备配置，提供更详细的工艺生长计划！
With our MPCVD system, you can grow single crystal diamond （SCD）/ monocrystal diamond which has the lowest inpurity. And you can also grow large polycrystalline diamond （PCD）for high power laser window or high power microwave window, the diameter ranges from 4 to 8’’ or even larger, and the thickness is from 1mm to several mm.
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