ASML 二手翻新 DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i 返回列表页

TWINSCAN NXT:2000i 为高级逻辑和 DRAM 节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配。

主要特点和优势

TWINSCAN NXT:2000i 是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为在*节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。

该系统配备了直列式折反射透镜设计，数值孔径 (NA) 为 1.35，是业内的。

该系统还包括用于改进叠加、焦点控制和交叉匹配的硬件创新。

专为与 EUV 混合搭配使用而设计，其模块化设计允许从前几代升级，并在未来继续升级。

01. 生产力

TWINSCAN NXT:2000i 拥有高生产率和低缺陷率。该系统的生产力目前为每天 4,600 片晶圆，这一成就是通过提供可选应用程序来实现的，这些应用程序允许系统优化扫描仪晶圆处理时间并减少特定用例的批量开销。

该系统显示出有史以来的成熟度，在短短 2 个月内就达到了 150 小时的可靠性（上一代为 6 个月）。

02. 光学

TWINSCAN NXT:2000i 包括一个 1.35 NA 193 nm 折反射投影镜头，可实现低至 40 nm（C-quad）和 38 nm（偶极子）的生产分辨率，以及支持全 26 x 33 mm 视场大小、4X减少和与现有设计的标线兼容性。

FlexRay Prepared Illuminator 扩展了传统和离轴照明的范围，以实现用于低 k1 成像的高级瞳孔整形。

03. 成像性能

NXT:2000i 可以实现 2.5 nm 交叉匹配的产品覆盖。新的 ORION 对准传感器提供更准确的对准测量和增强的工艺稳健性，以获得更好的覆盖性能。

此外，新的紫外线水平传感器标记 2 (UVLS-2) 提供更准确的水平测量，从而提高成像性能。

最后，对晶圆台平面度、耐久性和夹持机制的改进增强了系统与 EUV 的匹配。