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高温氧化炉(1500)

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更新时间:2023-02-25 08:04:46浏览次数:55次

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产品信息简介:1500高温氧化炉系统应用于246SiC或Si晶圆片的高温氧化等的特殊工艺
  • 产品信息
    简介:
     
     1500高温氧化炉系统应用于2”4” 6”SiC或Si晶圆片的高温氧化等的特殊工艺。 
     
    设备特点: 
     
    ◆优化结构设计 占地面积小
     
    ◆灵活多样的工艺调整
     
    ◆极易维护操作使用
     
    ◆极地维护使用成本
     
    ◆的可靠性
     
     产品性能: 
     
    ◆工艺温度可达1500℃(炉体可达更高的温度)
     
    ◆小批量R&D为5~25片/炉,生产型为50~100片/炉
     
    ◆常压/真空压力控制,极限<10-3mbar,工艺压力:800~1000mbar
     
     ◆炉型结构:水平/垂直

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