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氧化扩散LPCVD炉

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更新时间：2023-02-25 08:03:23浏览次数：97次

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产品简介
产品信息简介：用于IC集成电路、MEMS、功率器件、纳米技术、光电子器件等领域

详情介绍

  • 产品信息
    简介：

    用于IC集成电路、MEMS、功率器件、纳米技术、光电子器件等领域。

    产品性能：

    ◆4~8寸晶圆工艺，1~4/5管

    ◆恒温区：800/1000/1250mm

    ◆温度：200～1000℃

    ◆高精度可靠的自动压力控制系统

    ◆全自动机械手装卸，悬臂/软着陆

    ◆晶圆自动倒片，完整的工厂MES系统对接，符合SECSⅡ/HSMS/GEM等标准

    配套工艺：

    ◆多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2

    ◆磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG

    ◆TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

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