昆山半导体超纯水设备 返回列表页

             电子超纯水设备丨半导体超纯水设备   

半导体清洗超纯水设备水质标准：半导体芯片清洗超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美*半导体工业用纯水指标、*本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

半导体清洗超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(*新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(*新工艺)

电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下，采用世界上进的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水。控制系统选用PLC程序控制，可实现自动起停、加药及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于： 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。

苏州伟志水处理有限责任公司擅长水处理设备的研发、设计、安装与销售。在水处理设备设计的范畴，本公司会聚时代精英人物，涉及食品、电子、医药、化工、工业、社区用水各个行业。设计包括纯水设备、超纯水设备、中水回用设备、离子交换设备、软化设备、海水淡化设备等原水、污水处理设备。  

我们的水处理设备工程师在专业水处理行业拥有十数年的丰厚经历，在国内外为各个企业专业设计、安装、调试大、中、小型水处理工程及设备，他们的出色表现给各企业留下了深刻的印象。