电子行业半导体水质执行标准

电子行业半导体水质标准

电子工业与超纯水在半导体制作工艺中，80%以上的工序要经过化学处理，而每-道化学处理都离不开超纯水;在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降成品率低。

电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ.cm （25℃），已极其接近理论纯水水质 18.3 MΩ.cm（25℃）。对电解质、DO、TOC、SIO2、颗粒及细菌等技术指标提出更高要求。如256 兆位的动态随机储存器生产工艺，光刻线条宽已达0.1 微米，要保证这一指标，超纯水中颗粒径就得≤0.05μm，而且20.05μm 不得超过500个/升超纯水。

水质标准超纯水水质标准大多数由中科院半导体所主要制定。

电子级水国家标准∶详见表2.1

水的电阻值在测定水的导电性能时，与水的电阻值大小有关，电阻值大，导电性能差，电阻值小，导电性能就良好。根据欧姆定律，在水温一定的情况下，水的电阻值 R 大小与电极的垂直截面积F 成反比，与电极之间的距离L成正比。

水的电阻率的大小，与水中舍盐量的多少，水中离子浓度、离子的电荷数以及离子的运动速度有关。因此，纯净的水电阻率很大，超纯水电阻率就更大。水越纯 ，电阻率越大。

超纯水中杂质的污染源制备超纯水的水源由于水是一种溶解能力很强的溶剂，因此天然水中含有各种盐类和化合物，溶有CO2，还有胶体（包括硅胶和腐殖质胶体），天然水中还存在大量的非溶解性质，包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等等。

材料的影响∶备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的，金属在水中会有痕量溶解，造成金属离子污染。一些高分子材料在合成时常常加入各种添加剂、增望剂戴外吸光剂箱色剂，引入大量的金属、非金属杂质、同时还会带来有机污染。

材质的污染主要以污染值来衡量，所谓污染值是指，单位面积的材料使单位体积的纯水电阻率的增加值。表3.2 分别列出了各种材料的污染值和TOC 的溶出值。