工业发酵有机废气处理设备

工业发酵有机废气处理设备在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。

固体表面吸附了吸附质后，一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离，此现附。而当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓集，使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求，此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附，以协的吸附能力，这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程，达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。

工业发酵有机废气处理设备

特点：

① 不需要高成本的化学药剂，运行稳定，耐腐蚀，耐负荷冲击能力大。

② 针对特定有害气体成份驯化适当的微生物，提高单位容积的负荷率。

③ 填料采用有机无机混合填料，比表面积大，孔隙率高，并可为微生物

提供营养，可支撑大量不同种群微生物群。

④ 填料活性介质的损失小、可减少能耗，降低运行费用。

⑤ 采用强化自然生物降解污染物，无二次污染物产生。

⑥ VOC去除率高，对H2S的去除率可达99%。

⑦ PLC控制系统自动运行，无需人员管理。

光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物*氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在*的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温。

从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。