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伯东霍尔离子源辅助镀膜IBAD用于 PC 预清洁

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参考价300000-1920000/件
具体成交价以合同协议为准
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    其他品牌
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  • 所在地

    上海市

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更新时间:2023-11-09 09:56:53浏览次数:76

联系我们时请说明是化工机械设备网上看到的信息,谢谢!

产品简介

伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

详细介绍

美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (栅极离子源) 系列 RFCIP离子源  (射频电源式考夫曼离子源), KDC 离子源 (直流电源式考夫曼离子源) 已广泛被应用于离子溅射镀膜 (IBSD) 工艺.


离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电, 产生正的气体离子;在阴(靶)和阳(试样)间电压的加速作用下, 荷正电的离子轰击阴极表面, 使阴极表面材料原子化;形成的中性原子, 从各个方向溅出, 射落到试样的表面, 于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜.


伯东 KRI考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射 (Sputtering) 时靶材 (Target) 被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射 (Sputtering) 工艺条件选择 RFICP 离子源 (射频电源式考夫曼离子源) 或是 KDC 离子源 (直流电原式考夫曼离子源).

规格如下:

RFCIP 离子源 (射频式考夫曼离子源) : RFICP 40, RFICP 100, RFICP 140, RFICP 220, RFICP 380

KDC 离子源 (直流式考夫曼离子源): KDC10, KDC40, KDC75, KDC100, KDC160.


伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) KRI 离子源大中国区总代理.


伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, Gel-Pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.


http://www.hakuto-china.cn/uploadforck/images/image-20200724135740-1.jpeg


若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗女士



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