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在芯片生产中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不合格或水中含有杂质,就会降低装置的性能,降低产量。确保超纯水的质量是中国自主研发芯片的重要基础。
传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是,树脂在使用一段时间后应经常再生。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德经常采用反渗透工艺,或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2MΩ,满足芯片行业用水需求。
近年来,随着芯片制造过程中对设计的需求朝着更精确、更小的方向发展,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、细菌、有机物和微生物,从而达到电子行业常用的纯净的水质。
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