蚀刻和剥离系统

特点：

• 专为重要控制和安全而设计的系统。

• 多达9x9英寸/ 300mm直径的基板兼容性。

• 主轴组件具有直流无刷伺服电机，可实现精确的速度控制和分度。

• 特氟龙涂层不锈钢臂可调节臂速度和行进位置。

• 径向排气腔，用于大层流，盖子顶部有N2进料。

• DI-H20加热器，用于清洁和干燥辅助。

• 过程中包含化学相容性材料PVDF或可选的PTFE。

• 独立式聚丙烯柜。

• 微处理器控制功能可以在存储器中保留三十（30）步的配方，每个配方有三十（30）步。配方和步骤的数量均可根据要求扩展。

• 内置安全联锁和双重控制。

• 用联锁装置冲洗整个工艺区域和基材的pH值，以禁止进入工艺区域并控制排放和主轴转速直到安全。

• 按钮盖打开/关闭。

• 触摸屏图形用户界面（GUI），易于编程和安全锁定，并带有屏幕错误报告。

• 用于化学和房屋排水的排水分流阀。

• 设计符合SEMI S2 / S8准则。

技术参数：

• 产品：蚀刻和剥离系统

• 型号：CESx124

• 可用机械臂：4

• 大基板尺寸：13英寸直径

• 大主轴速度：2500

• 配方：高达30

• 分配管路：12

主营产品：

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉 

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统，湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机