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东莞市汇成真空科技有限公司


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多功能离子镀膜设备

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产品型号

品       牌

厂商性质生产商

所  在  地东莞市

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更新时间:2017-11-16 10:05:05浏览次数:236次

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经营模式:生产厂家

商铺产品:26条

所在地区:广东

联系人:何乃霞 (销售专员)

产品简介

本公司主营产品:真空镀膜设备;蒸发磁控溅射镀膜设备;多弧离子镀膜设备;环保电镀设备;真空表面处理设备;PVD离子镀膜设备;中频磁控多功能真空镀膜设备;金属电镀设备;蒸发镀膜设备;塑料电镀设备。

详细介绍

该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体,结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化。膜层各项性能提高,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜,多层复合膜等。经公司技术人员多年专注研发,通过*的阴极电弧离子和非平衡磁控系统,开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统,使镀膜膜层附着力致密度、从复度*性好等特点,解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不*等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金刚石膜(DLC)。  
1. 磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论,把阴极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。
2. 电弧等离子体蒸发源性能可靠,在优化阴极及磁场结构镀膜时可在 30A 电流下工作,镀膜膜层和基底界面产生原子扩散,又具有离子束辅助沉积的特点。

参数说明:

型号 JTL-800 JTL-1000 JTL-1250
真空室尺寸 Φ800Χ1000mm Φ1000Χ1000mm Φ1250Χ1100mm

镀膜方式及主要配置

六个多弧靶 +一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶 八个多弧靶 +一对孪生(中频)磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶 十二个多弧靶 +二套平面矩形磁控溅射靶+一对孪生(中频)磁控溅射靶

电源

电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源

工艺气体控制

质量流量计 +电磁陶瓷阀

真空室结构

立式侧(单)开门结构,后置抽气系统,双层水冷

真空系统组成

分子泵 +罗茨泵+机械泵(5.0Χ10-5 pa),扩散泵+罗茨泵+机械泵( 5.0Χ10-4pa)
工件烘烤温度 常温到 500度可调可控(PID控温),辐射加热
工件运动方式 公自转变频调速, 0-20转/分
测量方式 数显复合真空计:测量范围从大气至 1.0Χ10-5pa)
控制方式 手动 /自动/PC/PLC+HMI/PC四种控制方式可选
备注 以上设备可按客户实际产品及特殊工艺要求设计订做

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