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刻蚀清洗机

  • 公司名称:
  • 更新时间:
  • 所 在 地:
  • 生产地址:
  • 浏览次数:
  • 苏州华林科纳半导体设备技术有限公司
  • 2018-04-20 00:57:27
  • 苏州市
  • 苏州园区独墅湖高教区若水路398号
  • 297

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【简单介绍】

半导体清洗设备

【详细说明】

 

1.工艺流程;上料→喷淋→刻蚀→漂洗→ 刻蚀→ 喷淋→下料
 2.本设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动机械手,以迅速实现两槽之间的硅片转换。
3.腐蚀槽配有美国聚四氟乙烯加热器、温度、液位传感器。
4.清洗槽配有溢流装置,和N2鼓泡装置
    
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