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硅片蚀刻设备

  • 公司名称:
  • 更新时间:
  • 所 在 地:
  • 生产地址:
  • 浏览次数:
  • 苏州华林科纳半导体设备技术有限公司
  • 2014-07-10 09:33:42
  • 苏州市
  • 苏州园区独墅湖高教区若水路398号
  • 371

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【简单介绍】

半导体清洗设备

【详细说明】

设备名称
硅片蚀刻设备
用于半导体工艺中对硅片蚀刻。
规格尺寸
3000mm
1800mm
1780mm
主要材质
壳体:德国进口PP板,
槽体:NPP
产品特点
1.超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。
2.工艺过程:上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→料。结构特点:本设备为柜体式,操作面带有透明门窗。
3设备超声,加热清洗时间由定时器控制。加热槽装有温控表(pompon)和传感器。
4.每个清洗槽互不影响,超声、冲洗清洗槽的上给水(冲洗清洗槽配有热水)、下排水为手动方式。  
5.配有可调节式的排风装置。
 
1.电控部分采用密封保护方式配有紧急停机及报警装置。

 
    
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