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上海翰军实验设备有限公司
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概述：这款配置的低真空CVD系统集1200℃真空管式炉，3通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器）
概述：
这款配置的低真空CVD系统集1200℃真空管式炉，3通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产
（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量控制
器和浮子流量控制器）。真空泵、阀均采用进口设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温
精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷
基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
主要技术参数：
1200双温区加热炉 | 电压 | AC220V 50/60Hz |
功率 | 4.5KW双温控 | |
加热区长 | 220mm，恒温区长度：100mm | |
温度 | 1150℃ | |
工作温度 | ≤1100℃ | |
升温速率： | ≤15℃/min | |
温控系统 | PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器 | |
恒温精度 | ±1℃ | |
石英管 | φ 25/50/60/80*1400mm | |
三路质量流量控制系统
| 电压 | 185~245V/50Hz |
输出功率： | 18W | |
流量计标准量程： | 50，100 ，200，500SCCM；（非特殊以氮气标定，量程可选定） | |
工作温度： | 5~45 oC | |
工作压差： | 0.1～0.5 MPa | |
压力： | 3Mpa | |
准确度： | ±1.5% FS | |
低真空系统
| 1.采用双极旋片真空泵，真空度可达5×10-1 Torr不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性 2.安装过滤器 | |
内置测温系统 | 测温元件可从加热区边缘延伸至温区中心法兰密封，保证炉管的密封性测温元件： N型热电偶 | |
法兰及支撑 | 304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑 包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等 | |
可选配件 | 混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机等。 | |
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