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郑州科探仪器设备有限公司
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KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控溅射仪小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控溅射仪小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
针对市场上其它型号我们做如下改进
1 腔体扩充口可增加扩展口 大可扩展KF40接口方便连接分子泵 或 晶控传感器
2 样品可旋转 大转速20转每分钟 使镀膜样品更均匀
3 轻旋转机械手柄 样品高度可精细调节 样品距离靶材距离可到1mm
4 电动挡板 使用人机界面程序控制打开或者关闭时间
5 可通过人机界面手动或者使用编程自动控制预溅射（洗靶） 恒定功率输出 变换功率输出 定时打开挡板（时间单位 秒）关闭挡板 样品转速 工艺可存储 工艺名称可改 利如 喷金20纳米厚
6 腔体上盖铰链安装 更换靶材方便操作
7 此产品已申请多项技术 抄袭请慎重！！！
小型新款磁控溅射仪技术参数：
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
大功率 | ≤1000W |
大输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
极限真空 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 （大可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
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