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光刻胶过滤

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更新时间：2023-12-27 12:18:22浏览次数：49次

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杭州恒水过滤器材有限公司

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产品简介

光刻胶过滤光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到，同时严控过滤产品的金属离子析出。耐腐蚀全氟滤芯采用进口PTFE膜，进口PTFE支撑层，全氟骨架经过特殊结构设计而制成适用于光刻胶的终端过滤。主要特点天然疏水性、耐腐蚀广泛的化学相容性孔径确保有效过滤每支滤芯通过完整性检测应用领域：光刻工艺

详细介绍

产品描述

材料结构	操作条件	过滤精度(um)
滤材: 疏水聚四氟乙烯膜内芯: 聚丙烯外罩: 聚丙烯端盖: 聚丙烯垫片/O型圈: 硅橡胶、三元乙丙、氟橡胶、包四氟密封技术: 热熔焊接	工作温度：≤80℃ 可耐压差：4 bar (21℃)／2.4bar (80℃) 灭菌方法：121℃/30min蒸汽灭菌	0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20 有效过滤面积 ≥0.65 m2/10〞
生物安全性	滤芯尺寸	完整性测试
内毒素：≤0.25EU/ml 溶出物：≤30mg/10〞	外径: 68mm 长度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞	起泡点测试（60%IPA）） 0.10um≥4.0bar 0.22um≥3.4bar 0.45um≥2.3bar
应用领域
电子行业：电子级各类酸、碱、有机试剂过滤。制药行业：熔媒除菌过滤、腐蚀性、强氧化性液体、有机试剂等过滤。